產(chǎn)品分類
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描述:固態(tài)電解質(zhì)氣固反應(yīng)電化學(xué)池,三腔室設(shè)計(jì),中間腔室用于放置固態(tài)電解質(zhì),陰陽(yáng)極采用蛇形通道設(shè)計(jì)
標(biāo)題:氣固反應(yīng)電化學(xué)池
產(chǎn)品概述
池體1和2之間采用陰離子膜(diox ide material)和氣體擴(kuò)散層(負(fù)載陽(yáng)極催化劑)雙層結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)氣固界面和陰離子傳輸(注:需使用熱壓機(jī)成型以保證充分接觸)。池體2和3之間采用陽(yáng)離子膜(nafion115)和氣體擴(kuò)散層(負(fù)載陰極催化劑)雙層結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)氣固界面和陽(yáng)離子傳輸(注:需使用熱壓機(jī)成型以保證充分接觸)。池體1和2之間采用陰離子膜(diox ide material)和氣體擴(kuò)散層(負(fù)載陽(yáng)極催化劑)雙層結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)氣固界面和陰離子傳輸(注:需使用熱壓機(jī)成型以保證充分接觸)。池體2和3之間采用陽(yáng)離子膜(nafion115)和氣體擴(kuò)散層(負(fù)載陰極催化劑)雙層結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)氣固界面和陽(yáng)離子傳輸(注:需使用熱壓機(jī)成型以保證充分接觸)。
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C031-XRD原位 XRD 光譜電化學(xué)池 C031-S原位拉曼(氣體擴(kuò)散-蛇形流場(chǎng)型) C031-3S原位拉曼光譜電化學(xué)池(3H 氣體擴(kuò)散型) C031-4原位拉曼光譜電化學(xué)池(盤狀電極型) C031-3原位拉曼光譜電化學(xué)池(3H氣體擴(kuò)散型)服務(wù)與支持
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